เทคโนโลยีแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง (PVD) เป็นหนึ่งในเทคโนโลยีสำคัญในการเตรียมวัสดุฟิล์มบาง วัสดุเป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง-เป็นวัสดุสิ้นเปลืองหลักในกระบวนการสปัตเตอร์แมกนีตรอน และมีแนวโน้มการใช้งานในตลาดในวงกว้าง เนื่องจากเป็นวัสดุเคลือบที่-มีมูลค่าเพิ่ม-สูง วัสดุเป้าหมายที่เป็นไทเทเนียมจึงมีข้อกำหนดที่เข้มงวดในด้านความบริสุทธิ์ทางเคมี โครงสร้างจุลภาค และประสิทธิภาพ และเป็นวัสดุที่มีเทคนิคสูงและประมวลผลได้ยาก
วัสดุเป้าหมายไทเทเนียมสปัตเตอร์แมกนีตรอนส่วนใหญ่ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และข้อมูล เช่นวงจรรวม จอแบน และสาขาการเคลือบตกแต่งในอุตสาหกรรมตกแต่งบ้านและยานยนต์ เช่น การเคลือบกระจกและการเคลือบตกแต่งดุมล้อ ดังแสดงในรูปที่ 1 ข้อกำหนดสำหรับวัสดุเป้าหมายไทเทเนียมในอุตสาหกรรมต่าง ๆ ก็แตกต่างกันอย่างมาก โดยส่วนใหญ่รวมถึงความบริสุทธิ์ โครงสร้างจุลภาค ประสิทธิภาพการเชื่อม และความแม่นยำของมิติ ความบริสุทธิ์ของวัสดุเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับวงจรรวมส่วนใหญ่อยู่ที่สูงกว่า 99.995% และในปัจจุบันส่วนใหญ่พึ่งพาการนำเข้า ในตลาดสำหรับวัสดุเป้าหมายไทเทเนียมที่ใช้ในจอแบน ตลาดจอแสดงผลคริสตัลเหลว (LCD) เป็นตลาดที่ใหญ่ที่สุด โดยคิดเป็นสัดส่วนมากกว่า 90% LCD ถือเป็นอุปกรณ์จอแบนที่มีแนวโน้มมากที่สุดในปัจจุบัน การเกิดขึ้นนี้ได้ขยายขอบเขตการใช้งานจอแสดงผลอย่างมาก ตั้งแต่จอแสดงผลคอมพิวเตอร์โน้ตบุ๊ก จอคอมพิวเตอร์เดสก์ท็อป ทีวี LCD ความละเอียดสูง- ไปจนถึงการสื่อสารเคลื่อนที่ ผลิตภัณฑ์ LCD ใหม่ต่างๆ กำลังส่งผลกระทบต่อพฤติกรรมการใช้ชีวิตของผู้คน และขับเคลื่อนการพัฒนาอย่างรวดเร็วของอุตสาหกรรมข้อมูลของโลก
ความบริสุทธิ์ของวัสดุเป้าหมายที่เป็นไทเทเนียมมีผลกระทบอย่างมากต่อประสิทธิภาพของฟิล์มสปัตเตอร์ ยิ่งความบริสุทธิ์สูง อนุภาคองค์ประกอบสิ่งเจือปนในฟิล์มไทเทเนียมสปัตเตอร์ก็จะน้อยลง ส่งผลให้ประสิทธิภาพของฟิล์มดีขึ้น รวมถึงความต้านทานการกัดกร่อนและคุณสมบัติทางไฟฟ้าและทางแสงที่ดีขึ้น โดยทั่วไป วัสดุเป้าหมายที่เป็นไทเทเนียมจะมีโครงสร้างโพลีคริสตัลไลน์ โดยมีขนาดเกรนตั้งแต่ไมโครเมตรไปจนถึงมิลลิเมตร วัสดุเป้าหมายที่มีเนื้อละเอียด-มีอัตราการสปัตเตอร์เร็วกว่าวัสดุที่มีเนื้อหยาบ- สำหรับชิ้นงานที่มีขนาดเกรนใกล้เคียงกันบนพื้นผิวสปัตเตอร์ การกระจายความหนาของฟิล์มที่สะสมสปัตเตอร์จะมีความสม่ำเสมอมากกว่าเช่นกัน
